稀有气体纯化器(Entegris GateKeeper MC700-702FV) - 埃登威自动化系统设备有限公司
      

稀有气体纯化器(Entegris GateKeeper MC700-702FV)产品介绍

在半导体、**光学、真空镀膜、**分析检测等前沿产业中,高纯稀有气体是保障工艺稳定、产品良率的核心基础原料。氙气、氩气等稀有气体,常被用作工艺保护气、刻蚀气体、光源填充气。气体中微量的水、氧杂质,哪怕只有 ppb 级别,都可能造成晶圆氧化、薄膜缺陷、光学器件性能衰减,直接导致产品报废。这款 Entegris GateKeeper MC700-702FV 稀有气体纯化器,专门针对氙气、氩气等稀有气体深度除水除氧,可将气体提纯至 7N 乃至 9N 超高纯度,是**制程中终端点式纯化的关键设备。

该纯化器为美国应特格 Entegris GateKeeper 系列产品,型号 MC700-702FV,属于一体式气体纯化单元。设备本体为紧凑的金属筒式结构,自带 0.003 微米精密颗粒过滤组件,集杂质吸附与颗粒过滤于一体,无需额外配套过滤器。设备*大处理流量可达 120slpm,工作压力范围 0–17.3barg,适用温度区间 - 20℃~65℃,适配绝大多数高纯气体输送管路工况,安装灵活,可立式或卧式安装,无需外接加热电源,常温条件下即可完成纯化作业,使用便捷、运行稳定。

设备核心功能为深度脱除氙气、氩气内的水、氧杂质,同时可同步去除一氧化碳、二氧化碳、碳氢化合物等多种气态污染物。依靠专用吸气纯化介质,可将 H₂O、O₂等杂质降低至 ppt 级别,经纯化后的稀有气体稳定达到 7N(99.99999%),在严格控制进气条件下,可实现 9N(99.9999999%)的超高纯度输出,满足集成电路、先进封装、**光刻、激光、质谱分析等严苛场景的用气标准。传统瓶装高纯氙气、氩气,在钢瓶、管路输送过程中极易发生二次污染,在设备前端加装这款点式纯化器,能够在工艺使用前做*后一道把关,消除管路渗漏、钢瓶残余杂质带来的风险。

除氩气、氙气之外,该款 GateKeeper 纯化器兼容多种特种工艺气体,包含氦气、氪气、氨气、硅烷、六氟化硫等,气体兼容性广,可满足产线多品类高纯气体纯化需求。设备铭牌标注,对于清单以外的特种气体,可联系原厂评估适配性,给产线工艺升级预留充足拓展空间。纯化筒采用一体化密封设计,出厂预封装纯化介质,现场更换简单,降低管路污染风险;设备压降小,不会对原有供气系统造成过大压力负荷,方便集成到现有气体输送柜与机台点源管路。

在半导体制造领域,氩气广泛用于溅射沉积、等离子刻蚀;氙气用于光刻光源、离子注入、**等离子体工艺。这两类场景对水氧杂质极其敏感,微量水分与氧气会破坏薄膜界面,造成器件漏电、良率下降。这款稀有气体纯化器,放置在机台终端,作为 “气体守门员”,持续拦截气体中的痕量杂质,稳定保障工艺重复性。除半导体行业外,在真空镀膜、航天测试、**质谱、激光科研等领域,7N、9N 级高纯氙气、氩气同样不可或缺,纯化器能够为实验室与产线提供稳定可靠的超纯气源。

产品在设计上充分考虑超高纯气体使用的**规范,筒体采用高纯不锈钢材质,内壁经过特殊抛光处理,*大程度减少材料本身释放杂质。设备强调*小化大气暴露,在更换纯化筒的过程中,严格控制与空气接触,防止吸附介质提前失效,保障纯化性能。设备出厂经过严格的泄漏检测,避免运行过程中空气渗入,保证高纯气体品质不被破坏。

相较于大型集中式气体纯化系统,GateKeeper 筒式纯化器属于点式纯化方案,体积小巧,部署灵活,单台设备针对单路工艺气进行末端提纯,不同机台之间互不干扰,方便单独维护更换。对于产线改造、实验室升级场景,无需大规模改造供气主管路,只需要在用气点加装纯化器,即可快速提升气体纯度,投入成本更低,维护简单。

总而言之,Entegris GateKeeper MC700-702FV 稀有气体纯化器,是氙气、氩气深度除水除氧的高性能终端纯化设备,可稳定输出 7N~9N 超高纯稀有气体。它凭借常温运行、大流量、低压降、自带颗粒过滤、气体兼容性强的优势,解决了高纯稀有气体在运输、管路输送环节的二次污染难题,是半导体、先进光学、科研分析等**领域实现超纯工艺气体供给的核心装备,为精密制造与前沿科学实验筑牢气体纯度保障。

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